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薄膜・断面試料作製装置

概要
設備名称 |
薄膜・断面試料作製装置 |
設置場所 |
VBL電顕室 (小金井キャンパス) |
型式 |
日本電子(株)製 EM-01900IS イオンスライサ |
概要 |
【設備の特徴】薄膜試料作製装置イオンスライサは遮蔽材を介して、事前に用意した試料片にArイオンを照射して透過電子顕微鏡用の薄膜試料を作製する装置。従来のイオンミリング法に比べ試料加工時間を大幅に短縮。
【主な用途】厚さ100μmの試料から電子顕微鏡用薄膜試料を作製。
【基本仕様】
加速電圧 :1~8kV
ビーム径 :500μmφ
使用ガス :Ar
エッチングレート:5μm/min(8kV@Si)
【注意事項】試料冷却機構は組み込まれていません。 |
利用・予約方法
利用・予約方法 |
ネットワーク予約
|
備考欄 |
予約問合せについては牧 禎(teimaki@cc.tuat.ac.jp 、内線7496)までお願いします。 |
料金
利用料金 |
29,000円/日 |
トレーニング料金 |
1.400円/時間 Max |
管理者情報
管理者 |
箕田 弘喜 |
メールアドレス |
hminoda cc.tuat.ac.jp (迷惑メール防止のため「@」が画像になっております。) |
URL |
─ |