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薄膜・断面試料作製装置
概要
| 設備名称 |
薄膜・断面試料作製装置 |
| 設置場所 |
VBL電顕室 (小金井キャンパス) |
| 型式 |
日本電子（株）製 EM-01900IS イオンスライサ |
| 概要 |
【設備の特徴】薄膜試料作製装置イオンスライサは遮蔽材を介して、事前に用意した試料片にArイオンを照射して透過電子顕微鏡用の薄膜試料を作製する装置。従来のイオンミリング法に比べ試料加工時間を大幅に短縮。
【主な用途】厚さ100μmの試料から電子顕微鏡用薄膜試料を作製。
【基本仕様】
加速電圧 ：1～8kV
ビーム径 ：500μmφ
使用ガス ：Ar
エッチングレート：5μm/min（8kV＠Si）
【注意事項】試料冷却機構は組み込まれていません。 |
利用・予約方法
| 利用・予約方法 |
ネットワーク予約
|
| 備考欄 |
予約問合せについては佐藤道夫（fy3726[a]go.tuat.ac.jp [a]を＠, 内線7496）までお願いします。 |
料金
| 利用料金 |
29,000円/日 |
| トレーニング料金 |
1.400円/時間 Max |
管理者情報
| 管理者 |
箕田 弘喜 |
| メールアドレス |
hminoda cc.tuat.ac.jp (迷惑メール防止のため「@」が画像になっております。) |
| URL |
─ |
