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学外者利用可能設備一覧

薄膜・断面試料作製装置

概要

設備名称 薄膜・断面試料作製装置
設置場所 VBL電顕室 (小金井キャンパス)
型式 日本電子(株)製 EM-01900IS イオンスライサ
概要 【設備の特徴】薄膜試料作製装置イオンスライサは遮蔽材を介して、事前に用意した試料片にArイオンを照射して透過電子顕微鏡用の薄膜試料を作製する装置。従来のイオンミリング法に比べ試料加工時間を大幅に短縮。

【主な用途】厚さ100μmの試料から電子顕微鏡用薄膜試料を作製。

【基本仕様】
     加速電圧    :1~8kV
     ビーム径    :500μmφ
     使用ガス    :Ar
     エッチングレート:5μm/min(8kV@Si)

【注意事項】試料冷却機構は組み込まれていません。

利用・予約方法

利用・予約方法 ネットワーク予約
備考欄 予約問合せについては牧 禎(teimaki@cc.tuat.ac.jp 、内線7496)までお願いします。

料金

利用料金 29,000円/日
トレーニング料金 1.400円/時間 Max

管理者情報

管理者 箕田 弘喜
メールアドレス hminodacc.tuat.ac.jp (迷惑メール防止のため「@」が画像になっております。)
URL

管理者研究紹介

研究紹介URL